Fotolitografía – Alineadora de máscaras
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Alineadoras de máscaras
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Midas System diseña y fabrica alineadores de máscara manuales y semiautomáticos para una variedad de aplicaciones en microelectrónica, semiconductores y optoelectrónica. La producción de MEMS, LEDs, chips y circuitos integrados requiere alta precisión en el alineamiento de la máscara para las obleas en sistemas de nanolitografía por exposición UV. Las universidades y centros de investigación que requieren bajos niveles de producción disponen ahora de una solución de precisión y fiabilidad a un precio razonable para sus aplicaciones de nanolitografía. Puede también usarse en aplicaciones de producción asistidas por un operador.
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 Imagen SEM |
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Características de cada alineador de máscaras.
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| Alineadores de máscaras |
MDA-400M
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MDA-60MS
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| Tipo | Manual | Semi-automática (alineamiento manual, exposición automática) |
| Dimensiones de sustrato | hasta 6″ | hasta 6″ (opción 8″) |
| Dimensiones del soporte de máscara | hasta 6″ x 6″ | hasta 7″ x 7″ |
| Potencia de la lámpara UV | 350 W | 1kW |
| Resolución | 0.8 µm | 1 µm |
| Precisión de alineamiento | 1 µm | 0,5 µm |
| Uniformidad de la lámpara | < ±5% | < ±5% |
| Dimensiones del haz uniforme | 6,25″ x 6,25″ | 9,25″ x 9,25″ |
| Intensidad del haz (365 nm) | 20 ~ 25 mW/cm2 | 25 mW/cm2 |
| Tiempo de exposición | 0,1 a 999,9 segundos |
0,1 a 999,9 segundos
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| Modo de proceso | Leve, Intenso, Vacío y Proximidad | Leve, Intenso, Vacío y Proximidad |
| Dimensiones | 1050 x 1088 x 1561 mm (mesa antivibratoria incluida) | 1400 x 1100 x 1600 mm (mesa antivibratoria incluida) |
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Certificado CE
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SI
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Disponible en Abril 2012
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